trực tiếp kèo nhà cáiC5 농장 디비전 확장 사용

우리는 회사 인 Yukogawa Electric trực tiếp kèo nhà cái., Ltd., Yokomyo trực tiếp kèo nhà cái., Ltd. 및 Japan Michigan trực tiếp kèo nhà cái., Ltd.가 1950 년에 설립되었으며 BF Goodrich Chemical trực tiếp kèo nhà cái., Ltd.의 합작 투자이며, 회사가 처음 개발되고 건설되었습니다. 그 후, 우리는 Fudosan Hot Spring, Fudosan Hot Spring 및 기타 기술과 같은 자체 기술을 출시했으며 이제는 다양한 석유 화학 제품을 구축하고 구축 할 수있는 합성 원료입니다.

구성 요소 기본 자료 (개인 정보 보호 정책)

• 합성 스트라이프
• 합성 우유
• 화학 제품 (석유 수지, 뜨거운 플라스틱 슬러 핑)

고성능 재료 (신제품의 주요 개발)

• 화학 물질 (합성 향수, 특수 화학 물질)
• 정보 자료 (전자 재료, 집계 분말)
• 고성능 수지 (뜨거운 물 화합물)
• 고성능 프로파일 (광학 박막)
• 소스와 관련된 자료 (트립 포트)
• 의료 장비 작업

일본의 메인 스테이는 모두 다양한 구성 요소로 구성되어 있으며 원료를 기반으로하는 일련의 제품을 기반으로하는 C4, C5 및 C5를 포함한 자체 기술을 기반으로합니다. 우리는 C4 게임을위한 Zui의 고유 한 trực tiếp kèo nhà cái 기술을 제공하며 고품질 열 제조 합성 수유를 얻을 수 있습니다. 우리는 Xujiang, Xujiang, Xujiang, 2- 딩 보드, 합성 유황, 오일 수지, 뜨거운 열 화합물, 합성 향수 등과 같은 구성 요소와 같은 C5 열매를 수집하고 C5 열매를 수집하기 위해 GPI 방법을 사용합니다.

일본의 Mizuo는 국가 가족간에 합작 투자를하는 데 중점을 둔 회사입니다. 처음으로 C4 제조 제품을 설립하는 것이었지만 합성 물질이 처음 개발되었을 때 처음으로 자연 화학 그룹 "C5"가 상 동성 화학 그룹으로 개발되었으며 이는 C5 제조 도로의 결과였습니다.

但是 | 但是 但是, 丁二烯在 c4 馏分中约占 40 ％, 而异戊二烯在 c5 馏分中只含 10 ％左右。 C5 이외의 다른 성분이 있다면 사용할 수 없으며 C5 구성 요소의 사용을 개발했기 때문에 우리는 주요 개발의 개발에 중점을 두었습니다. trực tiếp kèo nhà cái 법률 기반 C5 구성 요소는 고유 한 기술이며 회사는 "C5 결합 사용"이라는 이름을 포함하여 회사의 다양한 회사를 지원했습니다.

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일본의 Zeon Process of Butadiene (trực tiếp kèo nhà cái) 방법은 회사의 측면 제품을 사용하는 직접적인 방법이며, 고품질 증기 장비를 생산하기위한 고도로 숙련 된 방법입니다. trực tiếp kèo nhà cái 방법은 전문 작업을 포함하여 가장 포괄적 인 제품을 제공하고 전 세계 47 개 전국에서 기술 출구를 제공하도록 설계되었습니다.

엔지니어링 소개

는 약 40% 이상의 C4 성분, 약 50% 이상의 딩 핫, 약 50% 이상의 딩 핫, 약 10% 이상의 C4 병, 그리고 더 많은 C4 병을 포함합니다. C4 농장에서 첫 번째 증기선 타워의 중간 줄과 그 지역은 DMF를 녹입니다. 첫 번째 분산 타워는 타워 아래에 있으며 탑의 중고품이 꺼내고 타워의 바닥 액체는 바닥으로 보내집니다. DMF 상 부서가 수행되었고 타워의 바닥이 제거되었습니다. 용해도가 다가오고, 열이 나면 신체의 정제 된 부분이 제거되고, 열의 높은 수준은 충분히 높습니다.

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trực tiếp kèo nhà cái 이후, 일본은 Zeon Process of Isoprene (GPI) 방법을위한 자체 기술을 출시했으며, 이는 C5 열매에서 석유와 온수를 제거하기 위해 석유와 온수를 사용하여 고품질 증기 및 기타 제품을 생성하는 측면 제품입니다. GPI 법은 Okochi No Suijima Industrial Exhibition C5의 창설을위한 기초를 만들었습니다.

엔지니어링 소개

약 15% C5 열, 약 20% C5 열, 약 10% C5 열 등을 포함합니다. C5 Floor Division trực tiếp kèo nhà cái., Ltd., 1 층 훈련 타워의 한가운데서 DMF는이 지역을 제공합니다. 불용성 DMF 구성 요소는 타워에서 추출되며 가용성 구성 요소는 최고 비등점 제거 타워, Shunji Hot, Shunji Hot, High Boiling Point C5 바닥으로 전달됩니다. 사소한 구성 요소에는 두 요소의 구성 분할과 다른 요소가 포함됩니다.
높은 비등점 제거 컬럼을 제거하기위한 성분에는 두 번째 추출 증기 섹션이 포함되고, 낮은 비등점 제거 컬럼을 제거한 후, 2 차 추출 온수의 하단 추출 및 낮은 끓는점 C5 물이 포함됩니다. 건설 과정에서 달성 된 성분은 Mizushima Works 내의 원자재 및 각 건축 C5 관련 제품입니다.

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